2,3,4,4'- 四羟基二苯甲酮 1,2 - 二叠氮基萘醌 - 5 - 磺酸酯（俗称：光引发剂 4215 / DNQ-4215，CAS：107761-81-9），属于重氮萘醌（DNQ）类正性光敏剂，黄色粉末，溶于酮、醚、酯类溶剂。

核心用途（最主要）

1. g 线 /i 线正性光刻胶光敏剂（电子级）

• TFT-LCD/OLED 面板：阵列基板、彩膜、触控屏光刻（g 线 436nm为主）。
• 半导体分立器件 / 中低端芯片：硅片微米 / 亚微米图形化，适配i 线 365nm曝光。
• 高精度 PCB：线路、阻焊、孔化光刻，分辨率与耐热性优于三羟基型（3215）。
• 阳图 PS 版 / CTP 版：印刷制版感光胶，曝光后碱溶差异形成图文。

2. 作用机理（与 3215 类似，但性能更强）

• 曝光前：DNQ 基团抑制酚醛树脂溶解，胶层抗碱显影。
• 曝光后：DNQ 光解→Wolff 重排→茚羧酸，曝光区碱溶性提升100 倍 +；未曝光区保留，显影得正性图案。
• 优势：四羟基结构→更高酯化率、感光更快、对比度更高、耐热 / 抗蚀更好。

三、与 3215（三羟基型）关键区别

• 4215（四羟基）：感光度更高、分辨率更好、热稳定性更强；用于TFT、高端 PCB、i 线半导体；价格略高。
• 3215（三羟基）：成本低、通用性强；用于普通 PCB、PS 版、低端 g 线胶。

四、其他工业用途

• 高分子光固化：涂料、油墨、胶粘剂的UV 引发剂 / 交联剂，提升固化效率与耐候性。
• 医药中间体：靶向药前体、药物缓释系统光敏组分，调控释放速率。
• 光学膜 / 抗蚀涂层：光学保护膜、光刻胶底层、耐蚀涂层的光敏添加剂